1987年獲中國科學(xué)院力學(xué)所博士學(xué)位。1991-1993在美國UC-Berkeley博士后，94年中國科學(xué)院提升為研究員。而后在美國Intel從事先進光刻研發(fā)工作多年。2001年參加中芯國際并組建了技術(shù)中心先進刻蝕工藝研發(fā)部，領(lǐng)導(dǎo)啟動了從90納米到32納米四個技術(shù)代CMOS技術(shù)的研發(fā)項目。在國內(nèi)外主流刊物和會議的各種邀請報告90余篇；有的研究成果被美國加州Berkeley大學(xué)教科書采用。申請專利60多項（12項國際專利）。

國家十一五02重大專項“65-45-32納米CMOS產(chǎn)品成套工藝和產(chǎn)業(yè)化”項目總負責(zé)人，國家十二五重大專項“32/28納米CMOS成套產(chǎn)品工藝和產(chǎn)業(yè)化”項目首席科學(xué)家。國家973項目“納米磁性自旋存儲器和半導(dǎo)體硅量子點存儲器的研制及其物理研究”首席科學(xué)家。其中“90-65納米大生產(chǎn)關(guān)鍵工藝技術(shù)“獲得2008年國家科技進步二等獎和教育部2007年科技進步一等獎,“65-45納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)化”成果獲北京市2012年科技進步一等獎。

曾經(jīng)擔(dān)任2007年國際半導(dǎo)體技術(shù)年會（ISTC2007）工藝分會主席。2010年中國國際半導(dǎo)體技術(shù)年會（CSTIC2010）被選為大會主席。目前還兼任北京大學(xué)兼職教授，復(fù)旦大學(xué)和西安電子科技大學(xué)的客座教授?，F(xiàn)任中芯國際集成電路制造有限公司技術(shù)研發(fā)副總裁。國家02重大專項總體專家組成員。